王晓东，男，1986年生，苏州常熟人，工学博士。 2014年毕业于西南交通大学机械设计及理论专业，获得博士学位。 2014年至今在江苏大学机械工程学院任教。
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王晓东
江苏大学机械工程学院教师
国籍
中华人民共和国
民族
汉族
出生日期
1986年6月21日
教学职称
副教授
工作经历
2014年 至今 江苏大学 机械工程学院 任教
研究方向
微/纳摩擦学；表面工程
学术成果
代表性SCI论文：
X.D. Wang, C.F. Song, B.J. Yu, L. Chen, L.M. Qian, Nanowear behaviour of monocrystalline silicon against SiO2 tip in water, Wear, 298–299 (2013) 80-86.
X.D. Wang, J.X. Yu, L. Chen, L.M. Qian, Z.R. Zhou, Effects of water and oxygen on the tribochemical wear of monocrystalline Si(100) against SiO2 sphere by simulating the contact conditions in MEMS, Wear, 271 (2011) 1681-1688.
L. Chen, H.T. He,X.D. Wang, S.H. Kim, L.M. Qian, Tribology of Si/SiO2 in Humid Air: Transition from Severe Chemical Wear to Wearless Behavior at Nanoscale, Langmuir, 31 (2015) 149-156.
J. Guo, B.J. Yu,X.D. Wang, L.M. Qian, Nanofabrication on monocrystalline silicon through friction-induced selective etching of Si3N4 mask, Nanoscale Research Letters, 9 (2014) 241.
1.
X.D. Wang
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X.D. Wang
3.
X.D. Wang
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X.D. Wang
申请/授权专利：
可应用于酸碱环境中的原子力显微镜液下针尖支架，中华人民共和国实用新型专利，授权专利号：ZL201320639994.2；（第2发明人）
基于摩擦诱导选择性刻蚀的氮化硅膜/硅微纳米加工方法，中华人民共和国发明专利，申请号：201310732868.6；（第4发明人）
一种用于原子力显微镜的气氛控制系统，中华人民共和国发明专利，申请号：201410009253.5。（第6发明人）
1.
可应用于酸碱环境中的原子力显微镜液下针尖支架，中华人民共和国实用新型专利，授权专利号：ZL201320639994.2；（第2发明人）
2.
基于摩擦诱导选择性刻蚀的氮化硅膜/硅微纳米加工方法，中华人民共和国发明专利，申请号：201310732868.6；（第4发明人）
3.
一种用于原子力显微镜的气氛控制系统，中华人民共和国发明专利，申请号：201410009253.5。（第6发明人）
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