袁凯，男，汉族，电子科技大学光电信息学院研究员。

本页面主要目录有关于袁凯的：个人简介、研究方向等介绍

国籍

中华人民共和国

民族

汉族

个人简介

1982年7月毕业于天津市南开大学物理系，2001年结业于吉林大学在职研究生班。

1982年于沈阳某微电子研究所参加工作：

1982年~1985年，任离子注入工艺技术员

1985年~1993年，负责蒸发、溅射工艺技术负责。

1991年~1994年，从事器件工程师工作，先后承担过若干种NMOS、CMOS电路的研制工作，负责器件的工艺设计、工艺串线及工艺调整。

1995年~1999年任研究所芯片研制中心工艺线线长，负责工艺线所有器件（包括NMOS、CMOS、TTL器件）的工艺设计，工艺实施、工艺调整及生产管理。高级工程师

1999年~2001年，任研究所芯片研制中心副主任。研究员

2001年~2006年任研究所芯片研制中心主任。

2006年任研究所副总工师。

2006年任电子科技大学光电信息学院研究员。

研究方向

十几年来，先后承接国家及部下达的科研任务有几十项，开展的基础工艺研究项目有：

肖特基TTL电路多层电极技术研究；

难熔金属及硅化物技术研究；

高温定薄膜电阻技术研究；

VLSI高性能LDDMOSFET工艺研究；

特种内存多层多晶结构的生成、及腐蚀工艺研究；

特种内存优质薄层栅氧化特性研究；

抗辐照工艺技术研究；

红外焦平面双阈值、双层多晶工艺技术研究;

现从事研究方向：

MEMS工艺技术研究；

光电集成器件技术研究等。