1980年初,德国物理学家冯• 克利青(Klaus von Klitzing)在法国格勒诺勃的强磁场实验室,测量金属—氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的霍尔电阻。他们发现在极低温1.5K和强磁场18T作用下,在二维体系的霍尔效应实验中,发现了一个与经典霍尔效应完全不同的现象:MOSFET的霍尔电阻并不随磁场强度的增大按线性关系变化,而是作如右图所示的台阶式变化。该现象被称为量子霍尔效应(quantized Hall resistance,QHE)这种电阻被称为量子霍尔电阻,具有如下的公式形式:
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