什么是光刻机，光刻机重要吗？

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；

在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

通俗易懂来讲光刻机就是个“投影仪”，把我们想要的影子投影到幕布上。

芯片那么精细，是怎么生产出来的呢？用刀刻？用水冲？都不行，因为芯片太精细了，动辄几十nm的线条，日常没有什么材料能做成这么精细的刻刀。所以我们就想了一个办法，用光线来刻，这也就是光刻机。

怎么个用光刻法呢？

我们都用过胶卷相机吧，胶片平日里是黑色的，不能见光的，一旦见光就会变白，我们也找了一种一见光就“易溶解”的特殊胶片。当我们想要在芯片上刻一个圆圈的时候，我们就在芯片上涂上这种特殊胶片，拿一个圆圈光照上去，再经过一些列后续处理，我们在这个芯片上就做出了一个圆圈图形了对吧。

光刻机就是用这种胶片来刻出图形的。剩下的问题是，我们怎么把一种我们想要的特定图形打到胶片上呢？

我们见过老式投影仪吧，原理跟皮影戏是一样的，做一个“剪纸”，拿灯光一照，这个剪纸就映在幕布上了。我们也想办法在光刻机里做了这样的“剪纸”，拿光源一照，这个剪纸就映在胶片上了。

以上就是光刻机的通俗理解。就是这么简单